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除臭原理
光化学离子除臭工艺是一种安全的处理方法，除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种氧化技术，综合利用了高强辐射场离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中硫化氢、氨、甲硫醇等VOC（挥发性有机物），并利用了水与氧在强辐射下分解所产生的活泼的次生氧化剂（OH自由基）来氧化分解恶臭气体，改变臭气分子的物化特性，终污染物质被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以达到除臭目的。高强辐射场和氧一道，存在一个协同作用，这种协同作用使该技术对恶臭的祛除速率得到7至9个数量级的增加，即反应速度增加千万至十亿倍。整个除臭过程中受外界影响少，所有的产物对人体及空气无影响，不产生二次污染物。
